El esfuerzo que hoy están haciendo los fabricantes de equipos de litografía chinos para desarrollar sus propias máquinas de vanguardia es titánico. Y como era de esperarse, el gobierno de Xi Jinping está respaldando a las empresas con subvenciones multimillonarias.
Una de estas compañías es Pulin Technology, la cual ha apostado por desarrollar sus propias máquinas de fotolitografía de vanguardia, y los logros poco a poco están llegando.
Prueba de ello es que el portal DigiTmes Asia, informó que en las últimas semanas envió a uno de sus clientes su primer equipo de vanguardia utilizando la tecnología de litografía de nanoimpresión (NIL, por sus siglas en inglés).
Si bien no fueron reveladas las características del nuevo equipo de litografía desarrollado por Pulin, se sabe que es más caro y sofisticado a comparación de las máquinas de litografía de ultravioleta extremo (UVE), que fabrica la firma neerlandesa ASML.
Entre sus funciones principales destaca la producción y transferencia de obleas de silicio sin la necesidad de que intervenga durante el proceso un sistema óptico extremadamente complejo. Esta estrategia resulta más sencilla y económica, aunque también conlleva la ejecución de varios movimientos secuenciales que ralentizan la operación.